需求增 JX金屬傳倍增南韓濺鍍靶材加工產能
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(2026/07/23 09:21:53)

MoneyDJ新聞 2026-07-23 09:21:52 蔡承啟 發佈

因應需求增加,日本半導體材料商JX金屬(JX Advanced Metals Corporation)傳出將對南韓據點投資40億日圓,倍增半導體用金屬薄膜材料「濺鍍靶材(Sputtering Targets、見圖)」加工產能。

日經新聞22日報導,JX金屬將對南韓半導體材料據點投資40億日圓,在2027年度內將濺鍍靶材加工產能提高至現行的約2倍。南韓三星電子、SK海力士(SK Hynix)在6月宣布將投資800兆韓元(約88兆日圓),因此JX金屬擬藉由倍增南韓加工產能,搶攻擴大的需求。

JX金屬的濺鍍靶材全球市佔率達6成。JX金屬是將日本生產的濺鍍靶材運往南韓當地進行加工。JX金屬此次計劃在位於平澤市的現有工廠內導入自動加工產線,提高濺鍍靶材加工產能。

根據Yahoo Finance的報價顯示,截至台北時間23日上午9點10分為止,JX金屬大漲3.69%至3,910日圓,今年迄今JX金屬股價累計飆漲約99%。

JX金屬3月10日宣布,為了擴增需求激增的半導體用濺鍍靶材產能,將對常陸那珂新工廠(茨城縣常陸那珂市)投資約230億日圓。JX金屬指出,此次擴增的濺鍍靶材設備預計將在2027年度下半年陸續投產、目標將濺鍍靶材產能擴增至2023年度的1.6倍(擴產6成)。

JX金屬目前透過磯原工廠(茨城縣北茨城市)生產濺鍍靶材,而常陸那珂新工廠為JX金屬投資1,500億日圓於2022年動工興建,該座工廠部分濺鍍靶材生產設備在2026年3月底開始進行試運轉。

(圖片來源:JX金屬)

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